15日、中国米国商会はこのほど「2012年度中国ビジネス環境調査報告」を発表し、その中で「中国の知的財産権保護は2011年と比べ、やや悪化している」との見方を示したが、中国当局はこれに反論している。写真は6月、広州で摘発された偽ブランド品製造工場。
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